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1200度小型PECVD系統

更新時間: 2019-11-21

訪問次數: 3477

產品報價:

產品簡介: PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

詳細資料:

產品用途

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品組成

PECVD系統配置;

1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質量流量控制系統

4.真空系統(單獨購買)

產品特點

電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

 

 

系統名稱

集成型PECVD系統

1200℃小型PECVD系統

系統型號

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統

手動

極限溫度

1200

加熱區長度

200mm

恒溫區長度

100mm

溫區

單溫區

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動方式及距離

自動滑動;200mm

手動滑動;200mm

溫度控制

30段程序控溫

50段程序控溫

控制精度

±1

爐管極限工作溫度

1200

氣路法蘭

采用多環密封技術卡箍快速連接

排風冷卻裝置

先進的空氣隔熱技術,結合熱感應技術,當爐體表面溫升到50℃時,

排溫風扇將自動啟動,使爐體表面快速降溫。

氣體控制方式

質量流量計(按鍵式)

氣路數量

2路(2-4路)

4路(可根據具體需要選配氣路數量)

流量范圍

0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定

精度

±1%F.S

響應時間

1sec

工作溫度(流量計)

20-120

工作壓力

進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

進氣方式

采用防倒流設計

規格

中真空(集成型請單獨購買)

系統真空范圍

10Pa-100Pa

真空泵

雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S(選配:其他抽速真空泵),出氣口配有油污過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw

信號頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出范圍

0W-500W

0W-100W

大反射功率

350W

30W

射頻輸出接口

50Ω,N-type,temale

功率穩定度

±0.1%

諧波分量

-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V)頻率50/60HZ

整機功率

70%

屏幕顯示

正方向功率,匹配器電容位置,偏置電壓值

爐體外形尺寸

290×350×340mm

290×350×495mm

系統外形尺寸

420×1440×1100mm

530×2310×750mm

系統總重量

270Kg

 

 

 

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